Semiconductor International(日本版)について
Semiconductor International誌は、1975年米国で創刊され、現在4万1000人の読者を持つ半導体製造技術専門の月刊誌です。
新しい半導体技術は米国で生まれることが多いため、Semiconductor International誌を英文のまま読んでいる読者も日本にいました。Semiconductor International日本版の発行により、英文のコンテンツを日本語で読めるわけです。
カバー範囲として、新しいデバイス構造、ウェーハ・プロセス技術、リソグラフィ、歩留まり管理、検査/測定、パッケージ技術をはじめとして、メモリーやフラットパネル・ディスプレイなど日本が得意な分野も含みます。
編集内容の8割程度は翻訳、残り2割を日本の独自取材で構成します。
日本版の部数は1万部。対象読者を半導体製造に関係する技術者や技術マネジャーだけに限定するコントロールド・サーキュレーション方式を採用します。
新しい半導体技術は米国で生まれることが多いため、Semiconductor International誌を英文のまま読んでいる読者も日本にいました。Semiconductor International日本版の発行により、英文のコンテンツを日本語で読めるわけです。
カバー範囲として、新しいデバイス構造、ウェーハ・プロセス技術、リソグラフィ、歩留まり管理、検査/測定、パッケージ技術をはじめとして、メモリーやフラットパネル・ディスプレイなど日本が得意な分野も含みます。
編集内容の8割程度は翻訳、残り2割を日本の独自取材で構成します。
日本版の部数は1万部。対象読者を半導体製造に関係する技術者や技術マネジャーだけに限定するコントロールド・サーキュレーション方式を採用します。
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フォト イメージング エキスポ2008(Photo Imaging Expo 2008)
2008年03月19日ー2007年03月22日
東京ビッグサイト -
LASER. World of Photonics China 2008
2008年03月18日ー2007年03月22日
Shanghai New International Expo Centre(中国上海) -
electronica & ProductronicaChina 2008
2008年03月18日ー2007年03月22日
Shanghai New International Expo Centre(中国上海)






