米MKS Instruments社と多変量解析とモデリングソフトウェアの米Umetrics社は、半導体製造工程用にAPC（Advanced Process Control）やe-診断の新しいソリューションを共同で開発、MKSが発売した。このソリューションでは、半導体製造における管理技術分野でのMKSの経験とUmetricsの解析力を結集させた。これにより非常に高精度な異常検出および分類（FDC: Fault Detection and Classification）を、MKSが最近発売したTOOLWebシリーズで、行うことができるようになる。そして、独自のTOOLWeb製品のアーキテクチャーや最新センサー技術、FDCソフトにより、MKSは半導体メーカーに詳細なプロセス・モニタリングとリアルタイムAPCにおける新しいソリューションを提供する。

　Umetricsは、複数の産業分野にまたがる製造現場で17年以上の多変量解析の実績を持っている。このたび、Umetricsは半導体製造向けの多変量解析ソフトウェアを開発した。半導体製造向けには、高速処理が必要とされている。Umetricsの半導体、製薬、石油化学や紙パルプなどの産業で培った経験と洞察力により、多変量解析ソフトウェア「SIMCA-QP+」の開発成功に至った。最新技術とシリコンウェーハ製造での多変量解析の経験から、このSIMCA-QP+には最新の多変量解析方法が盛り込まれている。さまざまな分野で活用できるこの技術は、APCモニタリング・システムの可能性を広げている。