米ニューヨーク州Albany州立大学の産学プログラムAlbany NanoTech College for Nanoscale Science and Engineering（CNSE）に、ArF液浸露光装置が設置された。蘭ASML社、米IBM社と東京エレクトロン（TEL）の3社が、液浸リソグラフィ技術をCNSEに提供し、また、3社にCNSEが加わりArF液浸リソグラフィの材料およびプロセスの最適化を300mmウェーハ上で行っていくとしている。リソグラフィシステムには、ASMLのArF液浸露光装置「TwinScan AT:1150i」とTELの塗布/現像装置「Clean Track Lithius」を導入した。米AMDと独Infineon TechnologiesもIBMと共同で液浸リソグラフィ技術を開発する計画で、この２社も同拠点を使用していく模様。
（Electronic News）