米アリゾナ州ツーソンに拠点のあるAlicat Scientific社は、微小流量用（0.5SCCMから50SCCM）のマスフロー・コントローラを半導体製造現場に導入、本格的に半導体市場に参入していく方針を発表した。

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　CVD、PVD、薄膜形成やスパッタなどの半導体製造プロセスやウェーハ裏面の冷却では、5SCCM以下でもコントロールできるマスフロー・コントローラが求められている。同社の層流補正技術（特許申請済み）により、フルスケールで0.5SCCMのガス流量を制御できる。制御範囲は、フルスケールの1％から100％まで可能で誤差は１％と小さく、応答時間は100ms以下と短い。

　同社のマスフロー・コントローラは、NIST（米国標準技術局）およびCE認定（欧州の規格認定の1つ）の製品である。また、同社のマスフロー・コントローラは、14種類のガスから標準校正ガスをユーザーが選択できるようになっており、簡単に取り付けができるようにその床面積は小さい。さらに、ユーザーが装置状況をすぐ確認できるようにダイナミック・ディスプレイを採用している。そして、装置上でPID（比例・積分・微分）制御ループの値を変更でき、流量、圧力や温度を含むパラメータを見ることができる。計算機能やフィッティングを含み数多くの部品をカスタマイズすることができる。