米国にあるASMLグループのASML MaskTools社とMicron Technology社は、95nm以降に向けたリソグラフィ技術の共同開発で合意した。この合意内容の中には、ASML MaskToolsからMicronへのIPポートフォーリオのライセンス供与および同IPの量産工場での使用も盛り込まれている。

　 ASML MaskToolsとMicronは、焦点深度やCD均一性、プロセスの自由度など主要な描画特性を改善させながら、高解像度技術（RET：Resolution Enhanced Technology）を実用的なものに改善していくとコメントしている。

　 さらにMicronはこの合意の中で、RETに向けた「MaskWeaver」とスキャナの最適化を図る「LithoCruser」をMaskToolsから購入することになっている。また、MicronはASML MaskToolsに高性能マスクの製造や解析サービスを提供し、65nm以降の量産に向けてArFスキャナ「TWINSCAN」の立ち上げに協力することになっている。

　 MaskToolsの社長兼CEOのDinish Bettadapur氏は、「クロムレスマスクのリソグラフィ（CPL：Chromeless Phase Lithography）や変形照明リソグラフィ（DDL：Double Dipole Lithigraphy）の次世代技術を一早く採用してくれたMicronに感謝している。Micronの協力により製品の開発と完成度を上げることができるだろう。ASMLはマスク設計から描画まで統合した製品群を扱い、最先端のリソグラフィの要求に応えられる唯一の装置メーカーだ」とコメントしている。