スウェーデンMicronic Laser Systems社が、同社100台目の装置を日本メーカーに向けて出荷した。出荷されたのは最新のTFT-LCD用マスク描画装置で、10月に納入される。また、Micronicは日本市場進出から今年で10周年を迎えた。これを記念して同社は9月29日、スウェーデン大使館において100台記念式典を開催した。2004年初めには国内で代理店販売から直販体制に切り替え、「国内のユーザーに新しいソリューション、アプリケーションを提供する」（日本法人代表取締役 筒井昌氏）体制を構築しつつある。2003年の同社売上高の59％が日本市場の売り上げとなり、日本市場は同社にとって最大の「ホームマーケットと化した状況」（同社社長兼CEO Sven Lofquist氏）としている。

　Micronicはレーザー方式を採用したマスク描画装置のトップメーカー。1990年代にCRTディスプレイ用シャドーマスク描画装置の業界標準の座を獲得し、それ以来TFT-LCD用においても標準の座を堅持している。半導体用のマスク描画装置の開発を1990年代中盤に開始し、2000年に日本市場に投入した。

　半導体用のマスク描画装置では、「Omega6600」シリーズが主力。0.13μm対応マスクの描画に対応する。さらにSLM（光空間変調器）技術を開発した。SLM技術は、ステッパの構造で、パターンの生成にMEMSを採用した。100万枚のマイクロミラーを搭載したMEMSチップでパターンを生成し、KrFレーザー光源を反射させて描画する。MEMSの微細化やレーザーの短波長化によりさらなる微細加工が可能で、また、EBと異なり描画速度は描画パターンに依存しない。高速・高精度のレーザー描画技術として期待されており、同技術を導入したマスク描画装置「Sigma7300」は65nmノード対応マスクの描画を可能にしている。また、SLMを用いて蘭ASML社とウェーハ直描技術の開発も行っている。Sigma7300は、年内に国内大手マスクメーカーに導入される予定としている。