NECの研究グループは、次世代光ディスク録画再生機の主要部品である青色レーザー素子を量産性に優れた素子構造で作製プロセスを開発した。この青色レーザー素子で、連続発振時で世界最高となる300mW以上の光出力が可能となった。

　現在の青色レーザー素子の作製方法は、ドライエッチングを用いて光導波部分を使っていたが、半導体に損傷を与えてしまうため青色レーザー素子の特性を劣化させることがあった。さらに、レーザーの出力を上げるためにより狭い光導波部分を厳密に形成する必要があるため、高出力特性と量産性の両立は困難であった。そのため、狭い幅の光導波部分を半導体にダメージを与えずに厳密に制御できる、量産性の高いレーザー素子作製技術の開発が求められていた。

　NECは、埋め込み結晶成長による光導波部分の形成プロセスを改善した。光導波と電流狭窄の双方に有効な窒化アルミニウム層を壁面に使う埋め込みストライプ構造を開発した。窒化アルミニウムのパターンは、結晶の成長過程および結晶自身にダメージを与えないように化学的なエッチングで行う。同社は、この青色レーザー素子が、次世代光ディスクの高性能化・高機能化に今後大きく貢献するものと考え事業部門への開発移管を推進していくとしている。

　また、開発した青色レーザー素子は、2004年10月5日から9日まで幕張メッセで開催される「CEATEC JAPAN 2004」で展示されている。