米Cymer社は、32nmノード以降の次世代リソグラフィ技術として検討されているEUVリソグラフィの量産技術用の光源に、LPP（laser produced plasma）方式を採用したと発表した。EUVリソグラフィの技術的課題の一つとして、量産レベルの要求を十分に満たすような光源の開発である。同社は、1997年からEUV光源の開発に取り組んでおり、同社の調査によればEUVリソグラフィの量産技術で光源の出力やコスト面でLPP方式が優位だという。