2004年12月09日

ギガフォトン、インジェクションロック方式のArFエキシマレーザーを開発
 ギガフォトンが、インジェクションロック技術を搭載したArFエキシマレーザー(193nm)光源「GT40A」を開発した。インジェクションロック技術は、非常に狭いスペクトル線幅を発振する低出力レーザーをレーザー共振器に注入し、この二つのチャンバを同期させることで狭いスペクトル線幅と高出力を両立した。発振周波数は4000Hz、最高出力は従来比2倍以上、スペクトル幅(半値全幅)は0.2pm(ピコメートル)を達成している。発売は2005年中頃の予定。

Advertisement

HOME | SI(日本版)について | 無償配布申込・変更 | サイトマップ | お問い合わせ | 広告掲載について | 関連サイト