スウェーデンMicronic Laser Systems社は、LCD用マスク描画装置「LRS15000-TFT3」を発表した。LCD第７世代ガラス基板（1300×1500mm）用のマスク描画が可能となっている。最小図形寸法は0.75μm。グレートーンマスク（GTM）の描画も可能となっており、グレーとなる半露光を生成することで必要なマスク枚数や工程を削減、LCD製造工程で大幅な効率化を実現できる。また、同社装置では初めてZ補正オプションを提供する。同機能は今まで同社レジストレーション（絶対位置精度）測定装置「MMS15000」に搭載されていたもの。マスクの高さ（Z軸方向）を測定し、レジストレーションの偏差を計算、そして描画時に調整することができる。大型マスクのたわみに追従しながら、オーバーレイ精度を大幅に向上する。