2004年12月13日

エスアイアイ・ナノテクノロジー、FIB-SEM複合装置「SMI3000SE」シリーズを発売
 エスアイアイ・ナノテクノロジーは、FIB-SEM複合装置「SMI3000SE」シリーズ2機種を発売した。

 SMI3000SEシリーズは、集束イオンビーム(FIB)と走査型電子顕微鏡(SEM)の複合装置で、200mmウェーハ対応の「SMI3200SE」と300mmウェーハ対応の「SMI3300SE」は、2004年12月から国内の半導体デバイスメーカーに納入を開始した。同装置は、FIBでウェーハ上の任意の箇所を自動で断面加工し、SEMで断面観察を行うことができる自動Cut&See機能を備えている。さらに、自動で取得された断面画像を一つ一つレビューすることに加えて、3次元構築ソフトウエアとの組み合わせにより立体的観察も可能になっている。また、連続A-TEM機能により、予め加工レシピを登録しておけば、ウェーハ上の任意の複数箇所のTEM試料作製を自動で行うことができる。無人で連続加工が可能なため、スループットや稼働率を大幅に向上できるとしている。加工位置は、欠陥検査装置やCADナビゲーションシステム、光学顕微鏡との座標リンケージ機能により簡単に見つけることができる。FIB加工中の状況を常時リアルタイムで行い、高倍率のSEM観察も可能となっている。

 イオンビーム光学系の加速電圧は、5〜30kVで、分解能は4nm(Vacc=30kVの時)、最大電流密度は30A/cm2以上。電子ビーム光学系の加速電圧は0.5〜15kVで分解能は5nm(Vacc=1kVの時)となっている。試料ステージは、電動でXY可動範囲は50/300mm、傾斜角度は-4〜60°、ローテーションは0〜360°となっている。

Advertisement

HOME | SI(日本版)について | 無償配布申込・変更 | サイトマップ | お問い合わせ | 広告掲載について | 関連サイト