台湾UMC社は、米Synopsys社のAA-PSM（alternating aperture phase-shift mask）技術を使用して、90nmプロセスの歩留まりを大幅に改善させたと発表した。AA-PSM技術は、リソグラフィの解像度を上げることができ、プロセスウィンドウを広げることができるため生産性を改善できる。このため、高性能で低消費電力が求められる90nmプロセス技術では重要になるとUMCはコメントしている。また、UMCとSynopsysの両社の技術者は、FPGAの製造にもAA-PSMプロセス技術の適用について検討を始めたという。