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2004年12月のニュース
Electronic Newsから:TSMC、液浸リソグラフィで90nmデバイスを製造(2004/12/27)
信越半導体、およそ1000億円を投資し生産能力を月産50万枚まで増設(2004/12/27)
Electronic Newsから:LG.Philips LCD、2004年第4四半期の液晶パネル価格は20%低下と修正(2004/12/27)
Gartner、2004年の世界半導体市場は前年比23.4%増(2004/12/27)
SESが新洗浄技術を開発、処理速度や面内均一性を向上し薬液使用量を半減(2004/12/24)
High-kゲート絶縁膜の開発が活発化 東芝はHfの最適な濃度を特定(2004/12/22)
Electronic Newsから:UMC、90nmプロセスの歩留まりを大幅に改善(2004/12/21)
Electronic Newsから:Micron、2GビットNAND型フラッシュメモリーを出荷開始(2004/12/21)
東芝、45nmノードに向けた新しいNiSi層形成プロセスを確立(2004/12/20)
東芝/NEC、MRAMを共同開発(2004/12/20)
JEITA、2004年度半導体テスター需要を42%増と見込む(2004/12/16)
Electronics Weeklyから:Soitec/ASMI、300mmの歪みSOIウェーハを試作(2004/12/16)
AMAT、AMDから300mm工場用のプロセス装置を大量受注(2004/12/16)
Electronic Newsから:AMD社とIBM社が歪みSiトランジスタを開発(2004/12/15)
IMECがトリプルゲート構造を採用した45nmトランジスタの開発に成功(2004/12/15)
日立/ルネサステクノロジ、65nm以降に向けたSOIデバイス構造を共同開発(2004/12/15)
旭化成マイクロシステム、Agilentの「93000 SOCテストシステム」と「Audio/Video 8」をオーディオ/ビジュアル系デバイスの量産ラインに採用(2004/12/14)
Electronic Newsから:iSuppli、2005年半導体売上高予測を4.7%増に下方修正(2004/12/13)
Electronic Newsから:TSMC、2004年11月の売上高は前月比8.6%減(2004/12/13)
エスアイアイ・ナノテクノロジー、FIB-SEM複合装置「SMI3000SE」シリーズを発売(2004/12/13)
SEZ、カスタマー・アプリケーションラボを拡張(2004/12/13)
富士写真フイルム、およそ460億円投じて新しい研究拠点を建設(2004/12/13)
新潟三洋電子、2004年12月末にも半導体の生産を再開(2004/12/13)
KLA-Tencor、65nmノード以降プロセスに対応した薄膜計測装置「SpectraFx200」を発表(2004/12/13)
横河電機、低価格な後工程用高速メモリーテスタ「MT6092」を発売(2004/12/13)
Tesseraが「2005 SiPシンポジウム」を1月18日に東京で開催(2004/12/10)
ギガフォトン、インジェクションロック方式のArFエキシマレーザーを開発(2004/12/09)
KLA-Tencorと大日本スクリーン製造が提携 合弁会社を設立しBlue29の成膜技術を提供(2004/12/09)
Micronic、LCD用に新型レーザーマスク描画装置を発表 第7世代ガラス基板用のマスク描画に対応(2004/12/09)
AMAT、新型レーザーマスク描画装置を発表(2004/12/09)