米Novellus Systems社のPVD装置「INOVA xT」が韓国Hynix Semiconductor社の300mm工場に採用されたと発表した。同装置は2004年第4四半期に出荷され、2005年1月にHynixの300mm工場でDRAMのAl配線工程に導入された。

　INOVA xT は2000年に発表。主にロジック製造におけるCu配線のCuシード形成に使用されていたが、最近になりAl PVD用途での採用が急速に拡大しているという