米Axcelis Technologies社が新型枚葉式イオン注入装置「Optima」シリーズを発表した。Optimaシリーズ最初の製品「Optima MD」は低エネルギー中ドーズイオン注入対応の装置で、すでに大手半導体メーカーの採用が決まっているという。販売開始は 2005年3月から。高エネルギー高ドーズ対応装置の投入も間近としている。

　イオン注入工程は、低エネルギー化が進んでおり装置のスループットが低下し、それが生産性の低下を招いていた。Optimaは中ドーズ量で500V〜750kVまでの超低エネルギーで広範囲のイオン注入に対応し、高生産性を維持する。チャンネル注入に対応し、特に高傾斜HALOプロセスで優位性を発揮できるとしている。