蘭ASML社は、米Intel社に先端プロセスに対応したフォトマスク製造に関する技術特許複数のライセンスを供与することで合意したと発表した。この契約には、ASML子会社の米ASML MaskTools社が保有するScattering Bar技術が含まれている。Scattering Bar技術はOPC（近接効果補正）よりさらに高度な超解像技術で、リソグラフィ工程のプロセスウインドウを向上し高歩留まりを実現する。すでに大手半導体メーカーおよびファンドリ20社がScattering Bar技術を採用しており「微細化によりこれら超解像技術の需要はさらに拡大する」（ASML MaskTools CEO Dinesh Bettadapur氏）としている。