米Applied Materials（AMAT）社がOPC（近接効果補正）対応の自動検証ツール「Applied OPC Check」を発表した。同社CD-SEM装置「Applied VeritySEM」との併用により、EDAツールのOPC設計データから計測レシピを生成し、OPC CheckからVeritySEMに数千個の測定箇所を指示、マスクが検証される。測定データはOPC CheckとEDAツールにフィードバックされ、分析を経てモデル構築、マスク検証、プロセスウインドウの特性判断に用いられる。マスク検証時間を従来の手社業に比べ90％短縮する。現在、米大手半導体メーカーで65nmプロセスの開発に採用されており、その他の半導体メーカーにおいても検証中としている。