米HPL Technoloies社と米Photoronics社は、DFM（Design For Manufacturing）ツールの共同開発契約を締結したと発表した。このDFMツールにより開発期間を短縮し、マスク製造における歩留まりを向上するとしている。

　Photoronicsは米国の大手マスクメーカー。この戦略的提携関係を活用し、同社が推進している顧客との開発イニシアチブ Integrated Lithography Plane（ILPTM）における開発も加速していくという。一方のHPLは、歩留まり向上ソフトウェアやサービスソリューションを提供している。HPL のソフトウェア技術をPhotoronicsのマスク製造技術に適用することで、短時間でマスクの解析・検証データを収集することができ、マスク製造ラインにおいてリアルタイムのフィードバックを実現、マスク製造歩留まりを飛躍的に向上できるようになるとしている。