米Synopsys社は、同社DFM（Design For Manufacturing）ツールを中国のファンドリGrace Semiconductor Manufacturing（Grace）が採用したと発表した。Graceは、SynopsysのOPC（近接効果補正）ツール「Proteus」とリソグラフィ検証ツール「SiVL」を使用することで、マスクの開発期間を短縮し、また、歩留まりを向上したとしている。

　マスク描画工程で使用されるデータGDS IIのファイルサイズが巨大化しており、DFMツールの実行時間は増加の一途をたどっている。Synopsysのツール群により、一度に数百のCPU上で分散処理を実行でき、マスク製造完了までの開発期間を大幅に短縮できるとしている。同社によると0.13μmプロセス以降では歩留まりの確保が困難となっており、同社DFMツールの採用が拡大した。特に同社OPCツールは、MPUやFPGA、グラフィックチップの80％、DRAMの50％、携帯機器向けベースバンドチップの75％の製造に採用されており、マスク作成では全体の約80％以上で同社マスクデータ準備用ソフト「CATS」が使われているという。
　Graceは上海に200/300mmウェーハを採用した2工場を有するSiファンドリ。200mm工場の生産応力は月2万7000枚に達している。