米KLA-Tencorは、「PTOLITH」にマスク設計やリソグラフィプロセスを最適化できる機能を追加した最新版（バージョン9.0）をリリースした。最新バージョンでは、マルチアルゴリズムシミュレーションにより超解像技術（xRET）や重要なパターンの製造の予測を数日から数分に短縮できる。また、新しく「Mask Defect」というオプションも追加されており、同社の「TeraStar」や「TeraScan」レチクル検査装置から提供される画像を使って、マスク欠陥やプロセスウィンドウに対するその影響を調べることができる。
　
　 さらに、PTOLITH9.0には各OPCパターンやマスクパターン、パターンのグループ移動やサイズ変更を同時に行い、設計やマスクを早期に最適化できる機能も追加されている。
例えば、出来るだけ大きな焦点深度でコンタクト転写できるように、サブ解像度アシストパターンのサイズや位置を簡単に最適化できる。