エスアイアイ・ナノテクノロジーは、65nmに対応したフォトマスク欠陥修正装置「SIR7000FIB」を発売した。SIR7000FIBは、集束イオンビーム（FIB）を用いて微細な欠陥を修正する。65nmノード世代で必要な60nm以下の微小な黒欠陥や白欠陥を10nm（3σ）以下の精度で修正することができる。新しいイオンビーム光学系を採用したことにより、イオンビーム照射位置の安定性を向上しビームを細く絞ることが可能になった。このため、微小な欠陥形状も細部にわたって観察すること可能となり、欠陥形状を忠実に捕らえて修正することができる。また、チャンバーユニットに温調システムを搭載しており温度変化を低減することにより、温度依存によるドリフトを低減させている。

　 さらに、レイアウト設計で用いられる図形データから欠陥箇所の正常なパターンを抽出し、欠陥箇所と重ね合わせることによって、正常なパターンにできるだけ近い形状で修正することができる。OPCなどの複雑な形状を修正する場合も忠実な形状で修正できる。
販売開始時期は、2005年4月15日からとなっている。