記事検索

検索方法の詳細


2005年03月22日

アジレント、65nmプロセス技術に対応した
パラメトリックテスタを発売
 アジレント・テクノロジーは、65nm以降のプロセス技術に対応できるパラメトリックテスタ「Agilent 4076 ウルトラ・アドバンスドDC/RF/パルス・パラメトリック・テスタ」と「Agilent 4075アドバンスドDC/RF/パルス・パラメトリック・テスタ」を発売した。「Agilent 4070」シリーズの基本性能を継承し、HFCV/RFCV測定や、超短パルスによるIV測定、RF (20GHzまで)によるSパラメータ測定などの機能が追加された。これにより、MOSトランジスタの薄膜容量測定や自己発熱に敏感なSOI上でIV測定が可能になった。

 Agilent 4075/4076は110MHzまでのHFCVと8.5GHzまでのRFCVの測定をサポートするためニーズに合わせて最適な方法を選択できる。MOSトランジスタの極薄ゲート酸化膜の容量測定には、HVCVあるいはRFCVといった高い周波数が必要になる。超短パルス測定機能(10nsが)を使えば、SOIトランジスタなど温度の影響を受けやすいデバイスや、High-kトランジスタなど電荷の影響を受けやすいデバイスの評価が可能になった。電流測定の分解能が1fA、電圧測定の分解能が0.1μVと高精度な測定が可能であるため、MOSトランジスタのリーク電流やCu配線の抵抗測定に適用できる。

 さらに、それほどクリティカルでない測定には、組み込まれた高速容量ユニットの使用にすれば、1kHz〜2MHzの周波数レンジで、容量測定を高速に実行できるため、テストコストを低減できる。また、「Agilent 4070」シリーズと同様にSEMI規格に準拠しており、完全自動化された300mm工場でDC/RF/パルス パラメトリックテスタを使用することができる。

Advertisement

HOME | SI(日本版)について | 無償配布申込・変更 | サイトマップ | お問い合わせ | 広告掲載について | 関連サイト