米Applied Materials社は、同社CVD装置「Producer CVD」の出荷台数が1000台に達したと発表した。Producer CVDは、65nmノード以降にも対応するためLow-k膜や歪みSi用薄膜、その他各種の絶縁膜を形成することができる。

　Producer CVDの代表的なアプリケーションにLow-k絶縁膜「Black Diamond」がある。現在主要半導体メーカーは、90nmから65nmに移行を進めており、Low-k絶縁膜を使用した製品比率が高くなっているため、Black Diamondの需要は年々増加している。さらに65nm以降にも適用するため、同社では比誘電率（k値）が2.5未満のLow-k絶縁膜のプロセス開発を行っている。

　一方、「HARP」プロセスは、応力調節可能な熱CVD成膜によってプリメタル絶縁膜やSTIなどのギャップフィル処理に適用することが可能で、45nm以降にも対応する。また、歪みSi技術に対応したSiNプロセスを利用すれば、デバイスのトランジスタ性能を30％以上上げることができる。