アルバックが半導体向けのカーボンナノチューブ（CNT）成膜装置とアーク方式のCNT製造装置を開発、ラインナップに加えた。これによりアルバックは、CNTを製造する殆どの手法の装置を自社で保有することになるという。
　
　「CN-CVD-800」は、最大200mmウェーハに対応したリモートプラズマCVDによるカーボンナノチューブ（CNT）成膜装置。アルバックは97年にCNTを選択的に基板上に成長させる25mm基板対応プラズマCVD装置「CN-CVD-100」を開発したが、CNTが多層間配線やゲートチャネルといった半導体への応用が検討されていることから半導体メーカー向けに200mmウェーハ対応装置を開発した。CNTをビアホールの多層間配線やゲートのチャネル部に水平に成長させることが可能になる。
　
　CN-CVD-800が加わり、CNT対応装置は、リモートプラズマ方式によるプラズマCVDと熱CVDの2種類となった。熱CVD 装置では、半導体プロセスのラピッドアニールを利用し、制御性を向上することでCNTに対応した。ディスプレイ用には熱CVDを用いた手法でグラファイト・ナノ・ファイバ成膜装置「GN-CVD-300」（対応基板サイズ210×294ｍｍ）を開発した。CNTをパウダとして利用するアプリケーションには、アーク放電方式のCNT製造装置をラインナップした。アーク放電方式のカーボンナノチューブ製造装置は名城大学との共同研究で開発されたもので、単層カーボンナノチューブを選択的に製造することが可能となっている。
　装置価格は900〜8000万円。2005年度で10台、2008年度で20台の販売を見込んでいる。