米Cymer社は、世界で初めて量産向けのArF液浸リソグラフィ光源の出荷を開始したと発表した。同社は出荷先について明らかにしていない。液浸リソグラフィ光源「XLA200」は、同社三世代目のArFエキシマレーザー光源で45nmプロセスに対応している。XLシリーズは、2年前に導入され始めてから100台以上の納入実績がある。XLA200は、最大繰り返し周波数が4kHz出力60Wで、200/300mmの露光装置で1.0以上の超高NAに対応すると同社は説明している。
　　ニコンとキヤノン、蘭ASML社の露光装置の大手3社は、いずれも液浸リソグラフィの開発を行っている。ASMLは、台湾のTSMC社に液浸露光装置を最初に出荷している。そしてTSMCは、2004年12月に液浸露光装置を使って90nmノードのデバイスを作製したと発表している。

　また、ASMLの液浸露光装置「TwinScan」は、米国ニューヨーク州にある研究開発拠点「Albany Nano Tech」と蘭IMECの二番目のR&Dセンターにも設置されている。さらに、Cymerは今年初めに同社二世代目のArF光源をIMECに納入している。