スウェーデンMicronic Laser Systems社が、同社マスク描画装置「Omega6000」シリーズの新製品2機種を発表した。発表されたのは新型の「Omega6800」と「Omega6080」。Omega6800は、0.13μmノード対応のマスク用のレーザー方式ラスタースキャン描画装置で、独自のムラ補正機能を搭載した。CCD/CMOSイメージセンサー用マスクや小型LCD、DRAM、SRAMなど、ムラの影響をうけやすいデバイスのマスクでシステム誤差を低減する。新設計の光学系により、CDリニアリティや白黒差を改善した。CD精度の向上は、新バイアス方式によりあらゆる角度で達成しており、特に斜め配線を採用したデバイス用のマスク製造で重要になるという。また、Omega6080では0.25μmノードまでのマスク描画で高生産性を実現した。スループットは、1日あたり15〜20枚。旧世代の電子ビームマスク描画装置の代替を狙うとしている。