2005年4月のニュース

• MoSys、富士通と1T-SRAM技術ライセンスを90nmへ拡張(2005/04/27)
• 2005年第1四半期の製造装置売上高は前期比8％増、BBレシオは0.94、VLSI Research調べ(2005/04/26)
• 凸版印刷、米DuPont Photomask社の買収手続きを完了(2005/04/26)
• ディスコが超音波加工対応のダイシングスピンドルを開発(2005/04/26)
• ASMIが米大手半導体メーカーからHigh-k/メタルゲート対応装置を受注(2005/04/26)
• Maxim、配送トラックがマレーシアで強奪される(2005/04/26)
• 3月の民生電子機器国内出荷金額は16カ月連続プラス、JEITAが発表(2005/04/26)
• フリップチップパッケージ用のリッドシール接着剤「EA-6700」(2005/04/26)
• パーフェクトデジタルストーム　DRAM市場の大きな波に乗り遅れるな！(2005/04/25)
• 次期SEMIジャパン代表に熊谷多賀史氏を任命、内田傳之助氏はSEMI本部特別顧問に就任(2005/04/22)
• 東京エレクトロン、DataPowerの「DataPowerXA35 XMLアクセラレータ」を国内販売(2005/04/22)
• NECエレとFlipChipInternational、WLP技術でクロスライセンス契約を締結(2005/04/22)
• 65nm技術ノード以降の設計を共同開発　NECエレがMagmaとのライセンス契約を拡大(2005/04/20)
• 高温ポリTFT液晶新工場が本格稼動、エプソン千歳事業所(2005/04/20)
• ニコン、第8世代対応LCD用露光装置を発表(2005/04/19)
• IC Insights、2004年DRAM売上高ランキングを発表　韓国勢がDRAM市場を席巻(2005/04/19)
• FEIが市販の電子顕微鏡で0.07nmの分解能を実現(2005/04/19)
• FreescaleとSoitecが歪みSOI基板を用いて45nmノードのデバイスを試作(2005/04/19)
• Micronicが新型レーザー描画装置を発表(2005/04/19)
• Keithley、65nmノード以降に対応した半導体信頼性試験システム「S510」を発売(2005/04/19)
• 富士通研究所、世界最高の感度でアルファ線を測定する手法を開発(2005/04/18)
• 伯東がBrion TechnologiesのOPC/RET 検証ツール「Tachyon RDI 1100」の販売開始(2005/04/13)
• アルバックがCNT成膜装置のラインナップ拡充　200mmウェーハ対応装置でCNTを半導体に応用する(2005/04/13)
• アドバンテスト、メモリーテストシステム「T5372」の販売開始(2005/04/13)
• Electronic Newsから：TDK、米投資会社に米半導体事業を売却(2005/04/13)
• ExarがInfineonの光ネットワーキングIC事業資産を買収(2005/04/13)
• NEC、大阪大学レーザーエネルギー学研究センターにスーパーコンピュータを納入　HPCチャレンジベンチマークの8項目で世界新記録(2005/04/13)
• アジレント、最新FPGAダイナミックアプリケーションソフトウエアを発売　自動チャンネル設定で瞬時に測定が可能に(2005/04/13)
• 2005年2月の移動電話国内出荷数量、2カ月連続のプラス(2005/04/13)
• 富士通が液晶デバイス事業譲渡で契約(2005/04/13)
• Cymer、量産向けの液浸リソグラフィ光源を出荷開始(2005/04/13)
• Avizaが中古装置ビジネスを開始(2005/04/13)
• ARMが新たなビジネスモデルを構築(2005/04/13)
• Electronic Newsから：装置市場回復論に、待った！悲観的な日本の装置メーカーに理があるのかも(2005/04/06)
• レーザー誘導式ウォータージェット技術を携えSYNOVAが日本市場に本格参入(2005/04/06)
• SEZの枚葉式洗浄装置をエルピーダが採用DRAM製造においても枚葉化が進む(2005/04/06)
• 松下電器とLG Electronics、PDP特許訴訟で和解(2005/04/05)
• AvizaとAir Liquidが共同開発に合意(2005/04/05)
• SMSCがOASISを買収、車内AVネットワーク市場に参入(2005/04/05)
• JEITAが電子材料工業会を統合、製品から材料まで幅を広げる(2005/04/05)
• MykrolisがExtractionを吸収合併液浸リソ工程の汚染制御技術の確立を急ぐ(2005/04/04)