米IBM社と凸版印刷は、45nmプロセスに対応できるフォトマスクの共同開発契約を締結したと発表した。開発費用は、両社併せて2億米ドルを予定している。

　45nm対応のフォトマスクの開発は、IBMの米バーモント州にあるバーリントン工場で進め、ニューヨーク州イーストフィッシュキルにあるIBMの300mm工場で評価を行う。凸版印刷は、エンジニアを派遣しバーリントン工場のマスク開発チームと共同開発を行う。すでに開発した65nm対応のフォトマスク製造技術をお互いに持ち寄ることで、効率的に45nm対応のフォトマスクの開発を進め、2007年半ばまでに量産体制を整えることを目指すという。また、凸版印刷は、自社工場にも共同開発したフォトマスク製造技術を移管し、IBMバーリントン工場と同条件のフォトマスク製造体制を構築することになっている。