独Leica Microsystems社は、同社65nmノード対応マスク用CD-SEM装置「LWM9000」の引き合いが強く、出足が好調と発表した。同社は、2004年4月に開催されたSEMICON Europe 2004で同装置を発表、初めてSEM市場に参入した。2004年には、大手フォトマスクメーカーから9台を受注。発表直後の受注額はおよそ2000万ユーロに上り、1台目は発表後6カ月でマスクメーカーに納入され、現在4台が米国および日本のマスクメーカーの製造ラインで使用されている。残りの5台の出荷準備も完了しており、アジア市場で納入される模様だ。
　 Leicaによると、LWM9000は電子ビームの基板へのチャージングが極端に低く、基板への汚染もないため、装置の長期再現性が1nm以下（3σ）となっている。