2005年6月13日〜17日に米国カリフォルニア州アナハイムで行われるDesign Automation Conferenceの開催が近づいてきた。このような中、半導体メーカーの間では全く欠陥がない90/65nmの設計技術について盛んに議論が行われている。NECエレクトロニクスは、米国ベンチャーのPonte Solution社のモデルベース歩留まり解析技術を使って、90/65nmの設計に成果を挙げていると述べている。

　歩留まり低下を引き起こす欠陥が、90nm以降のデバイス製造では大きな問題になっており、設計者はチップのどこの部分が最大の問題になっているのかを設計段階で特定しなければならない。また、再設計を減らすにはどのような対策を行うかを検討しなければならなくなっている。

　同社は、プロセス解析システムを増補するためPonteの技術を採用した。「我々にはプロセス解析に関して豊富な経験がある。自社で解析ツールを開発し、継続してプロセス技術の改善を行ってきた。Ponte Solutionのモデルベース歩留まり解析技術は、我々のランダム欠陥の解析結果と大きな相関が見られた」と同社は説明している。

　Ponteは、米Telos Venture Partners社や米US Venture Partners社、米Incubic社などから資金を得て、2002年に設立された。Ponteは、モデルベースのソフトウエアを供給しており、設計段階で半導体製造の歩留まりの予測や最適化を図ることができる。