米KLA-Tencor社は、DFM（Design for Manufacturing）向けの歩留まり管理ソリューションを提供するため、米Aprio Technologies社と提携した。両社は、統合マスク検査および修復装置を共同開発していく。この提携に先立って、KLA-Tencorの投資会社である米KT Venture Group社は、2005年7月初旬にAprioに対して資金提供を行っているが、具体的な金額については明らかにされていない。

　今回の共同開発は、Aprioの光近接効果補正（OPC：Optical Proximity Correction）およびリソグラフィのシミュレーションを行う「Halo」を中心に行っていく。そして、Haloを現在KLA-Tencorが開発中の全自動マスクレイアウト検査装置に組み込む。これにより、ユーザーは、マスクレイアウト検査装置で検出した局所的な誤りを迅速かつ正確に修復できるようになる。

　また、Haloを使用すればOPC設計レイアウトを再構成して問題を補正できる。OPC情報の再利用が可能であるため、OPCを完全にやり直すことなく最適な結果が得られるという。この結果、マスクデータの設計変更作業を最大30倍高速化することができる。両社が共同開発した製品は、2006年に提供を開始する予定。
(Electronic News)