米Honeywell社は、米Albany
NanoTechとの共同研究活動に、今後5年間で最低500万米ドルを投資する予定と発表した。Honeywellは次世代半導体材料開発に取り組むために、Albany
NanoTechにラボを設置するとともに、研究員を派遣する。
Honeywellは、Albany NanoTechにおける研究活動で、メタル材料と原子層蒸着(ALD：Atomic Layer
Deposition)関連材料の開発に重点的に取り組む。また、次世代のHigh-k材料の開発にも主眼を置くとしている。
Albany NanoTechは、ニューヨーク州立大学Albany校のナノスケール科学工学部 (CNSE)およびニューヨーク州ナノエレクトロニクスエクセレンスセンター(NYSCEN)の本部となっており、200
mm/300 mmウェーハ対応の製造設備を設置している。その中には、6万5000ft2を上回る300 mmウェーハ対応のクラス1クリーンルームを有し、次世代プロセスの開発が行われている。
