ベルギーIMECは、蘭ASML社のArF液浸露光装置「XT:1250i」を最新のハードウエアにアップグレードを行い、45nmに向けて大きな改善が得られたと発表した。アップグレードは先月（2005年8月）に行われ、CD均一性やオーバレイ回数、パターン欠陥数の点でリソグラフィ性能が改善された。
ウェーハ全体のCD均一性はウェーハエッジまでスキャンさせ、フォーカス精度を向上させたことにより、第1世代の液浸露光装置と比べCD均一性を約2倍に改善された。また、オーバーレイ性能は、新たに設計したステージによりドライの露光装置と同等レベルまでに改善された。さらに、欠陥密度は0.037個/cm2まで低減することが可能になった。
IMECのSiプロセス/デバイステクノロジー部門のバイスプレジデントであるLuc Van den hove氏は、「装置をアップグレードして、このような良好な結果をパートナー企業に示すことができてうれしく思う。液浸リソグラフィにおける主要な課題を克服したことにより液浸リソグラフィを45nmに適用することができるだろう」と述べている。
（Electronic News）
