スウェーデンMicronic Laser Systems社は、最先端フォトマスク製造向けの新型レーザー描画装置「Sigma7500」を発表した。同装置により、バイナリおよびフェーズシフトマスク（PSM）といった90nm、65nm、45nmノードへの対応が可能となった。
Sigma7500は、光空間変調器（SLM：Spatial Light Modulator）技術と、波長248nmのKrFエキシマレーザーを組み合わせ、高解像度、光学的近接効果（OPC：Optical Proximity Correction）パターンに対する忠実度、優れたCD制御を実現したという。さらに、描画時間を1時間45分まで短縮し、プラットフォームの生産性を従来の約2倍に高めた。
また、生産性および歩留まりを向上するための新機能として、ノンユニフォームマスクプロセスなどのエラーを処理するエネルギー拡散コンペンセーションと「ProcessEqualizer」を導入している。
