ギガフォトンは、リソグラフィ用光源として新型ArFエキシマレーザー「GT60A」の出荷を開始した。発振波長は193nm、発振周波数は最大6,000Hzで、45nm以降のノードに対応する。同社では、露光装置メーカーによる接続テストを経て、2006年中頃から主に液浸露光装置に搭載されて半導体工場での稼働が始まると見込んでいる。

　GT60Aは、インジェクションロック方式の露光用ArFエキシマレーザー。発振周波数を従来製品「GT40A」の1.5倍に高めた。これにより、パルス当たりのエネルギーを抑えながら、平均出力を33％以上高い60Wとした。

　すでに実績のあるGT40Aプラットフォームをベースに設計し、最大限の共通化を図ったため、「導入当初から高い信頼性が期待できる」（同社）。GT40Aで新規導入された高度自己診断機能のほか、装置の可用性を高める各種機能も追加してある。モジュール交換性を含むサービス性も確保した。

　そのほかの主な仕様は、パルスエネルギーが10.0mJ、スペクトル幅が0.2pm未満（半値全幅）または0.5pm未満（95％エネルギー積算）。モジュール保守間隔は以下の通り。

・レーザーチャンバー交換：130億パルス（発振段）、190億パルス（増幅段）
・モニターモジュール交換：300億パルス
・POフロントミラー交換：120億パルス
・POリアントミラー交換：120億パルス
・フッ素トラップ交換：200サイクル