独Schott Lithotech社が、結晶化ガラス製ウェーハの開発に着手した。すでに150mmウェーハの製造が可能な体制を既存材料製造で実績を持つ製造ラインで整えたという。このウェーハに使用される結晶化ガラスは1100℃までの高温加工に耐えられるため、温度の制約を受けずに、成膜や加工を行うことが可能となる。

　同社マテリアル開発部門ディレクタのDirk Sprenger氏は、「膨張係数、透明度、ヤング率などはガラスの組成や工程上の調整で要求に応えることが可能」と述べる。同社では現在、透明度や熱安定性の性能ごとに6タイプの材料をラインナップする。同ウェーハ上には、さまざまな材料の成膜が可能で、1100℃までの高温プロセスを通すことができるようになる。実績のある「ZERODUR」の技術を適用、基板上のコーティング技術も多数有しており、SiやGaAs、II-IV族半導体の成膜が可能だ。特にSiや化合物半導体では、ウェーハの不足や高価格化が起きるため、同技術によりそれら高価な結晶材料の置き換えるなど、広範囲で多様な需要が見込めるとしている。