米Mentor Graphics社は、RET(Resolution Enhancement Technique)検証ツール「Calibre OPCverify」を発表した。
　設計歩留まり向上に向けたDFM(Design For Manufacturing)ツールの新製品である。プロセス変動の歩留まりへの影響を、パターン転写性に悪影響を及ぼす条件範囲(ドーズ、フォーカス)を見極めるアルゴリズムを用いて解析し、リソグラフィ的なエラーや境界を検出する。プロセス変動は特にリソグラフィプロセスにおいて問題を起こすことが多く、たとえ露光装置の操作条件(プロセスウインドウ)が許容範囲内であってもパターン転写忠実性を損なうことがある。
　65nmプロセスではRETがより複雑になっている。リソグラフィ工程のプロセスウインドウはより狭くなり、設計レイアウトのトポロジ感受性も高くなっている。Calibre OPCverifyはこれらの課題への対応を目指したツールであり、そのモデリング機能は、液浸リソグラフィを含め、現在運用されている最先端プロセスのリソグラフィ条件に対して動作が保証されているという。
　同社が提供しているユーザー・インターフェース「Calibre Verification Center」を使って、セットアップおよびコンフィギュレーションを実行できる。また、このユーザー・インターフェースを使用することで既存のワークステーションなどのハードウエアを最適化された形で利用でき、より短いTATで解析を実行できるという。