米Intel社と大日本印刷は、32nm世代以降用マスクの開発に向けて協力関係を延長すると発表した。協力内容には、EUVリソグラフィ技術向けのマスク技術の開発が含まれている。両社は、2000年から180nmから45nmまでのプロセスにおけるマスク開発で協力してた。今回の協力関係の延長は、従来の関係を継続するとともに、両社共同の取り組みをさらに強化するものとしている。両社は、EUVリソグラフィ技術の実現に向けて、適切な時期にマスクを提供できるよう注力していく。