記事検索

検索方法の詳細


2006年02月22日

KLA-Tencor、
300mmウェーハ向け自動欠陥検査装置「Viper 2435」を発表
 米KLA-Tencor社は、300mmウェーハ対応の自動欠陥検査装置「Viper 2435」を発表した。すでに出荷を開始している。生産ラインへの新規導入だけでなく、生産現場で既存モデルの「Viper 2430」をアップグレードすることも可能。

 新モデルのViper 2435は、一度の検査で明視野と暗視野の検査チャンネルを同時に機能させるため、最大100枚/時のペースでウェーハのさまざまな欠陥を検出できる。CMP、エッチング、成膜モジュールでViper 2435を使用すると、最先端の検出および識別アルゴリズムとアダプティブスレッシュホルド技術により、生産性を低下させる擬似欠陥を抑え、対処が必要なキラー欠陥に速やかにフラグを立てられる。ウェーハの表面全体およびエッジ損傷のほか、オプションでウェーハ裏面の検査も行える。

 KLA-Tencorの欠陥データ管理ソフトウエア「Klarity」と統合されていて、歩留まりおよび欠陥の原因究明を自動解析し、検査データから対処方法決定までの時間を短縮できる。

 KLA-Tencorでは「擬似欠陥を抑え、広範なマクロ重要欠陥を検出し、速やかにGo/No Goを判定することにより、チップメーカーはエキスカージョンで引き起こされる生産性および歩留まりの問題を未然に防げる」としている。なお、量産に適した装置であり、所有コストが目視検査に比べ67%低減するという。

 KLA-Tencorは、米国カリフォルニア州サンノゼで開催中(2月19日〜24日)のSPIE Microlithography 2006に、Viper 2435などを出展している。

参 考>> KLA-Tencor(ニュースリリース)
  KLA-Tencor(ホームページ)
  ケーエルエー・テンコール(ホームページ)
   
関連記事>> 2006年2月号 Features−65nm以降のFEOLにおける欠陥検査の課題を3Dレーザー明視野検査で克服
2006年2月号 Features−最新プロセス制御技術で高歩留まりとコスト削減を実現
2006年1月号 Semicon Explorer−リソグラフィ歩留まり問題に向けたいくつかの新製品を発表する
2006年1月号 Technology News−データから決定までのプロセスをどのように決めるか?
2005年10月号 Features−欠陥捕捉率を改善してすばやく異常を検出
   
関連ニュース>>
Advertisement

HOME | SI(日本版)について | 無償配布申込・変更 | サイトマップ | お問い合わせ | 広告掲載について | 関連サイト