米KLA-Tencor社は、分光エリプソメトリ(SE)ベースのCD計測装置の最新版である「SpectraCD-XT」を発表した。同製品はデバイス構造のCDやプロファイルを効率よくインライン測定し、歩留まりの早期予測を可能にする。MAM（移動-画像取り込み-測定:Move-Acqire-Measure）時間を2秒と非常に短く、前機種と比較してスループットが2倍（100枚/時）に向上させている。

　SpectraCD-XTはSTIやゲート、スペーサなど複雑なデバイス構造を高精度に計測することができる。従来のほぼ垂直に近い入射照明による反射率測定ではなく、斜入射照明を利用しているためゲートのノッチングやフッティングなど微細な欠陥も特定することができる。また、新しいアプリケーションとしてコンタクトやビア、トレンチ、露光装置認定用の測定機能などがある。MAM時間が2秒以内と非常に短いため、フィールドまたはウェーハ全体でのCD均一性に必要な数万ポイントの測定を行うことが可能になっている。

　同社は2006年2月21日〜22日に米カリフォルニア州サンノゼで開催されている「SPIE Microlithography 2006」でSpectraCD-XTをはじめ歩留まり管理およびプロセス制御製品を展示している。