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2006年05月09日

Electronic Newsから:
MicronとPhotronics、
次世代フォトマスク開発/生産の合弁会社を設立

 米Micron Technology社と米Photronics社は、次世代半導体向けフォトマスクの開発および生産を行う合弁会社「MP Mask Technology Center」を設立する。MP Mask Technology Centerからのフォトマスク供給は、直ちに始める予定だ。

 MP Mask Technology Centerの設立にともない、Photronicsは3年間で1億3500万ドルを投資する。一方Micronは、本社を置く米アイダホ州ボイジーにある既存フォトマスク技術センターを提供した。持株比率はMicronが50.01%で、過半数を保有する。

 MicronとPhotronicsは、技術ライセンス契約と供給契約についても合意した。ただし、詳しい内容については明らかにしていない。

 また両社は、ボイジーに独立したナノテクノロジ対応工場を建設し、Photronicsがフォトマスクの量産に利用する計画を発表した。Photronicsは、工場建設などに必要な投資額を1億ドルから1億5000万ドルと見込んでいる。新工場は2007年末に完成させ、検証作業を開始する。
(Electronic News)