日立ハイテク、マスク設計データ計測システム「DesignGauge」
OPCモデル作成用データの取得期間を1/5に短縮

　日立ハイテクノロジーズは、マスク設計データ計測システム「DesignGauge」の販売を開始した。同システムでは、マスクパターン設計データと測長SEMで計測したウェーハ上の回路パターンの画像データを高精度に照合、比較することで、設計開発効率や生産歩留まりを改善する。

　ウェーハに回路パターンを露光、転写する場合、光の回折効果でマスクパターンと実際のパターンとの間にずれが生じる。このずれを解消するため、光の近接効果を考慮してマスクに補正をかける光近接効果補正(OPC：Optical Proximity Correction)処理を行うが、パターンの微細化にともないOPC処理が複雑化していた。

　従来のシステムは測定レシピの作成に測長SEMが必要であったが、DesignGaugeは設計データを利用することで、測定レシピのオフライン作成を可能とした。その結果、レシピ作成作業の負荷を軽減できる。さらに、測定レシピに基づき測長SEM「S-9380II」をリモート制御し、マスクパターン設計データとウェーハに転写されたテストパターンを自動的に照合してOPCモデル作成用のデータを取得する。

　こうした機能により、日立ハイテクでは「大量なOPCモデル作成用のデータ取得作業が高効率化でき、データ取得期間を従来に比べ約1/5まで大幅に短縮できる」としている。

　またDesignGaugeには、通常の測長SEMに搭載されている測長機能に加え、マスクパターン設計データと半導体パターンの寸法の差を測長する機能を搭載した。保存したSEM画像を使って測長を再実行する機能も備える。