米KLA-Tencor社と米Clear Shape Technologies社は、45nm以下のフォトマスク検査を可能にするDFM(Design For Manufacturability)ソリューションで協業することを発表した。両社は、KLA-Tencorの新しいフォトマスク検査システム「Terascan HR」とClear Shapeの「InShape」および「OutPerform」などのEDA製品において協力して、顧客企業のデバイス生産の歩留まりを向上し最先端の設計による製造を早く開始できるように、DFMソリューションの実現に取り組む。

　両社の関係は今回が初めてではなく、Clear Shapeが2005年6月に2回目のベンチャー資金調達で500万ドルを公募した時にKLA-Tencorの投資パートナーのKT Venture Groupが参加している。KLA-Tencorのレチクルとフォトマスク検査部門のバイスプレジデント、Harold Lehon氏は、「重要な設計意図をフォトマスク検査に活かすことにより、顧客企業は迅速に製造段階に到達でき、45nm以下の製造プロセスにおける歩留まり向上サイクルを加速できる」と述べている。
(Colleen Taylor, Electronic News)