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大日本印刷、18nm対応のナノインプリント用テンプレートを開発

[issued: 2007.09.25]

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ナノインプリント用テンプレート(上)、 その拡大写真(下)

 大日本印刷(DNP)は、18nmプロセスに対応したナノインプリント用のテンプレートを開発した。半導体メーカーにてSiウェーハ上へのパターン転写に成功しており、技術的な信頼性は高いとしている。

 DNPは、1961年にフォトマスク事業を開始。近年では、ナノインプリント技術において、基板上に回路パターンを形成する際に用いる石英ガラス製テンプレートの開発に注力、2005年には45nm対応のテンプレートを開発した。32nm対応のテンプレートについても、既存の先端フォトマスク量産設備による生産技術を確立しており、半導体メーカーへの供給を開始するという。今回、材料およびプロセスにおける改良を重ねることで18nm対応のテンプレート開発に至ったという。

 同社は今後、30nm以降のテンプレートを量産設備で作製するための技術開発を積極的に進めていく。



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