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2007年のSiウェーハの出荷面積は前年比9%増、SEMIが予測
[issued: 2007.10.11]
米SEMIは、SEMI Silicon Manufacturers Group(SMG)によるSiウェーハ出荷面積のコンセンサス予測を発表した。同予測によると、出荷面積値は、2007年は前年比9%増の86億9600万平方インチ、2008年は同12%増の96億9500万平方インチ、2009年は同6%増の102億5700万平方インチ、2010年は同6%増の108億4000万平方インチになるとしている。2006年から2010年のCAGR(年平均成長率)は8%であり、予測期間において総ウェーハ出荷面積は堅調な伸びが予想されるという。
SEMI SMGのチェアマンで、独Siltronic社で副社長を務めるVolker Braetsch氏は、「300mmウェーハが引き続きSiウェーハの出荷を牽引している。2008年までに300mmウェーハの出荷面積は200mmウェーハを追い越すだろう。ただ、200mmウェーハが市場の重要な部分であることには今後も変わりない」とコメントしている。
SEMI SMGのチェアマンで、独Siltronic社で副社長を務めるVolker Braetsch氏は、「300mmウェーハが引き続きSiウェーハの出荷を牽引している。2008年までに300mmウェーハの出荷面積は200mmウェーハを追い越すだろう。ただ、200mmウェーハが市場の重要な部分であることには今後も変わりない」とコメントしている。
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