Current Issue 2004年12月号

..2004年12月号


	ナノインプリントリソグラフィの全容
	1：1のテンプレートを使ったナノインプリント・リソグラフィは、リソグラフィ装置を昔のようなシンプルな構成に戻す可能性を秘めており、さらに10nm以下のパターン形成をも実現する。研究室レベルから産業レベルへと移行しつつあるにも関わらず、その技術はまだ未熟であり、量産環境ではまだ証明されてはいない。



	90nmノード用PSMにおける位相誤差
	微細寸法の計測技術
	フェムト秒ファイバレーザーの半導体への応用
	スキャナ用オーバレイの組み合わせ表を作成する


	ニコン執行役員精機カンパニー開発本部本部長牛田一雄氏---2005年はニコンの液浸技術が花開く年


	65nm以降のプロセスを中心に最新ナノテクまで明らかになるIEDM ’04