Current Issue 2005年2月号

..2005年2月号


	歪みSiの導入には選択エピ技術が不可欠に
	長年、限られた工程でしか使用されてこなかったSiエピタキシャル成長技術が、ULSIの製造プロセスで重要な工程に導入されつつある。エレベート・ソース/ドレインの形成に導入され始め、今や歪みSi技術の形成に不可欠になっている。



	薄型パッケージ向けにチップの耐性や強度を検証する
	MEMS製造に向けた Si深堀りエッチング技術
	Cuダマシン工程の閉ループ制御


	High-k/メタルゲート量産への見通し

	アジレント・テクノロジー・インターナショナル代表取締役社長半導体パラメトリックテスト事業部事業部長　海老原稔氏微小電流測定技術を活用しFPDテスト市場に参入