Current Issue 2005年3月号

..2005年3月号


	ArF時代の明視野欠陥検査装置における課題
	ArFリソグラフィの採用に伴い、従来とは異なるレジスト、マスク、そして露光装置が使用される。これらは今まで見たことのない欠陥を発生させる可能性があり、欠陥検査装置はこれらの新しい要求に応えなければならない。



	位相シフトマスクを効率よく検査する
	多変量解析を用いたリアルタイムFDC
	自動車向けSoPデバイスのテスト
	11人のアナリストが占う2005年のゆくえ>


	ソニーが配線材料にCuAg合金を採用
	装置代金の支払遅延で競争力低下が懸念される国内半導体メーカー


	Emerging Technology-- トランジスタ1個だけでメモリーセルを構成するメモリーがついに現実化


	富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ代表取締役社長　滝本雅章氏 ArFレジスト市場の拡大はこれから　現状はArF市場シェアトップを維持