塗布用のコーターに載せられたSiウェーハに水溶性のPAD溶液を数滴落としている。 （出典：米ロスアラモス研究所）

　PADプロセスは水溶液を使用し、あらゆる金属酸化膜を高品質に作ることができる。原子量などを考慮して一つまたは複数の金属から膜が生成できる。アモルファスや多結晶、エピタキシャルの薄膜を10nmから数百nm以上の厚さで付けることも可能だ。PADを使うことによりLos Alamosの研究者らは、単純なTiO2やZnOからSrTiO3やITOのような複雑な膜の製造にも成功した。
　金属酸化膜の物理的特性は幅広いため、光電池デバイスやガスセンサー、マイクロエレクトロニクス、腐食防止デバイスなどのアプリケーションに適しているため、重要な材料と考えられている。金属酸化膜は、通常真空装置でPVD（Physical Vapor Deposition）またはCVD（Chemical Vapor Deposition）で成膜されている。