2005年6月号

Process

●LCD露光装置 FX-71S,FX-81S

連絡先：ニコン www.nikon.co.jp

●マスク描画装置 Omega6800,Omega6080

連絡先：スウェーデンMicronic Laser Systems社 www.micronic.se

●実装装置 Polaris Assembly Cell

連絡先：スイスAlphasem社 www.alphasem.com

Metrology and Inspection

●ウェーハ検査装置 Puma 900シリーズ

連絡先：米KLA-Tencor社 www.kla-tencor.com 国内連絡先：ケーエルエー・テンコール www.kla-tencor.co.jp

●半導体信頼性試験システム S510

連絡先：米Keithley Instruments 社 www.keithley.com 国内連絡先：ケースレーインスツルメンツ www.keithley.jp

●LCD用CF/TFTリペア装置 CRシリーズ

連絡先：レーザーテック www.lasertec.co.jp

Parts

●露光装置用レーザー光源 RELAX

連絡先：米Cymer社 www.cymer.com

●ドライポンプ Adixen A300

連絡先：仏Alcatel Vacuum Technology社 www.adixen.com 国内連絡先：日本アルカテル www.alcatel.co.jp

●ステージ Herculesシリーズ

連絡先：米Rockwell Automation社 www.rockwellautomation.com

●製造装置 レベリングツール WaferSense ALS

連絡先：米CyberOptics Semiconductor社 www.WaferSenseALS.com/japan

Material

●蒸着フィラメント 蒸着フィラメント

連絡先：韓国KBM社 国内連絡先：伯東 www.hakuto.co.jp

●イオン注入部材 POCO ZEE,SCF

連絡先：米Poco Graphite社 www.poco.com

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